光刻膠photoresist （含感光樹脂、增感劑和溶劑 ）

光刻膠是光刻成像的承載介質(zhì)，其作用是利用光化學(xué)反應(yīng)的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學(xué)能量，進而完成掩模圖形的復(fù)制。目前，集成電路生產(chǎn)中使用的光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產(chǎn)生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成 。

光刻膠是微電子中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，是近年來大規(guī)模和大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大了光刻膠的研究研究和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954 年由明斯克等人研究成功的聚乙烯醇肉桂酸酯是用于印刷工業(yè)的，以后才用于電子工業(yè)。

光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。

中文名：光刻膠

外文名：photoresist

別名：光致抗蝕劑

成分：感光樹脂、增感劑和溶劑

分類：負性膠和正性膠

硅片制造中，光刻膠的目的主要有兩個：光刻膠原理，小孔成像；源頭，古老的相機；

（1）將掩模版圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中；

（2）在后續(xù)工藝中，保護下面的材料（例如刻蝕或離子注入阻擋層）。

分類：

光刻膠的復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。

圖1 正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比

利用這種性能，將光刻膠作涂層，能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型。

光聚合型

采用烯類單體，在光作用下生成自由基，自由基再進一步引發(fā)單體聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特點。

光分解型

采用含有疊氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄?，可以制成正性膠。

光交聯(lián)型

采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種的負性光刻膠?？逻_公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。

產(chǎn)品供應(yīng)：

1.關(guān)于顏色

產(chǎn)品因分子量不同，產(chǎn)品性狀和顏色會有差別。

2.關(guān)于客服

如您的咨詢沒能及時回復(fù)，可能是當時咨詢量過大或是系統(tǒng)故障。

3.關(guān)于售后

我們將提供售后服務(wù)，。.

4.關(guān)于發(fā)貨

我們的合作快遞公司有、、京東，、。

溫馨提示：西安齊岳生物供應(yīng)產(chǎn)品用于科研，不能用于人體

wyf 01.22