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等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測儀

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產(chǎn)品簡介

等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測儀IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe）,自帶差式泵，堅(jiān)固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。

詳細(xì)介紹

等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測儀儀器簡介：
IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe）,自帶差式泵，堅(jiān)固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子.
*的專業(yè)終點(diǎn)檢測（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程質(zhì)量優(yōu)化監(jiān)測.

技術(shù)參數(shù)：
應(yīng)用：
• 終點(diǎn)檢測（End Point Detection）
• 靶的純度鑒定
• 質(zhì)量控制/ SPC.
• 殘余氣體分析
• 泄漏監(jiān)測

等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測儀 主要特點(diǎn)：
特點(diǎn)：
• 高靈敏度的 SIMS/MS，帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器
• 三級(jí)過濾四極桿，標(biāo)準(zhǔn)配置質(zhì)量數(shù)為300 amu
• 差式泵歧管，經(jīng)連接法蘭，接到過程室
• 離子光學(xué)器件，帶能量分析器和內(nèi)置離子源
• Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過壓保護(hù)
• 數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過程控制工具整合
• 穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)
• 通過 RS232、RS485或以太網(wǎng)，軟件MASsoft控制
• 程控DDE, 平行數(shù)字式I/O, RS232通訊

我們的客戶多數(shù)都是工作在新技術(shù)研究的前沿，如等離子體、表面科學(xué)。我們與他們保持著密切的、積極的關(guān)系。我們的重量法吸附儀是其*技術(shù)的*體現(xiàn)，為有關(guān)領(lǐng)域的研究者提供了*的技術(shù)手段，使其研究水平居于較高地位。

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