四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法

合成了系列四(3-異戊氧基)金屬酞菁MPc(3-iso-PeO)4 (M=Cu, Pb, Ni)和四(4-異戊氧基)金屬酞菁MPc(4-iso-PeO)4 M= =Cu, Ni, Pb, Zn)配合物，通過(guò)元素分析、核磁共振、FTIR光譜和質(zhì)譜等對(duì)合成產(chǎn)物進(jìn)行了表征。利用旋涂制備了系列四(3-異戊氧基)金屬酞菁MPc(3-iso-PeO)4(M=Cu, Pb,Ni)、四(4-異戊氧基)金屬酞菁MPc(4-iso-PeO)4 (M=Cu, Ni, Pb, Zn)、系列四叔J基四氮雜卟啉配合物MTAP(t_Bu)4 [M=Pd、Co、Ni]和四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t_Bu)4]薄膜，采用Uv-Vis、FTIR和AFM對(duì)配合物在薄膜中的存在狀態(tài)和薄膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析。

四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]

利用旋涂制備了系列四叔J基四氮雜卟啉類(lèi)酞菁配合物[Pd、Co、Ni、CuTAP(t-Bu)4]和四叔J基酞菁配合物[CuPCc(t-Bu)4]旋涂膜。研究了中心金屬、共軛環(huán)大小、薄膜形貌對(duì)NHg和NO2的氣敏性影響。研究發(fā)現(xiàn)配合物氣敏性與中心金屬離子半徑、d-電子數(shù)和共軛能力有關(guān)。中心金屬離子半徑越大、d-電子數(shù)越多，中心金屬d-電子對(duì)酞菁共軛環(huán)的π -電子貢獻(xiàn)越大，對(duì)卟啉環(huán)的給電子能力增加大，越有利于卟啉環(huán)向NH3轉(zhuǎn)移電子,利于產(chǎn)生空穴載流子，卟啉配合物的響應(yīng)越大。增加配合物共軛環(huán)共軛能力，了配合物對(duì)氣體的響應(yīng)，但降低了響應(yīng)恢復(fù)能力;多孔微型薄膜結(jié)構(gòu)有利于薄膜對(duì)氣體分子的吸附與脫附，大大了配，合物的響應(yīng)恢復(fù)能力。

產(chǎn)地：西安

純度：99%

用途：用于科研

供應(yīng)商：西安齊岳生物科技有限公司

西安齊岳生物供應(yīng)多種酞菁定制材料：

四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]

溫馨提示：以上產(chǎn)品只可提供做科研實(shí)驗(yàn)不能用于人體

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